DIN 50453-2
Pruefung von Materialien fuer die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Aetzrate von Aetzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren
inactive
| Organization: | DIN |
| Publication Date: | 1 October 1990 |
| Status: | inactive |
| Page Count: | 2 |
| ICS Code (Semiconducting materials): | 29.045 |
Document History
August 1, 2023
Pruefung von Materialien fuer die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Aetzrate von Aetzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren
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February 1, 2023
Pruefung von Materialien fuer die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Aetzrate von Aetzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren
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DIN 50453-2
October 1, 1990
Pruefung von Materialien fuer die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Aetzrate von Aetzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren
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