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Diese Norm legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Al, As, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Ni, Nb, Pb, Sb, Sn, Sr, Ta, Ti, V, Zn und Zr in Salpetersäure im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsmethode die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma als Ionenquelle (ICP-MS) eingesetzt wird.

Die beschriebenen Verfahren gelten für Metallspuren-Massenanteile von 100 ng/kg bis 10 000 ng/kg. Das Abdampfverfahren nach 5.3 ist auch auf andere verdampfbare Flüssigkeiten anwendbar, sofern die Wiederfindungsraten der Analyte zwischen 70 % und 130 % liegen.

ANMERKUNG Diese Norm kann auch für weitere Elemente angewendet werden, sofern die für diese Elemente ermittelten statistischen Verfahrenskenndaten den Anforderungen aus Abschnitt 12 entsprechen.